UNIST 연구팀, 2차원 반도체 공정 오염 방지 기술 개발
UNIST 연구팀이 2차원 반도체인 이황화몰리브덴 표면에 희생 금속막을 입혀 공정 오염을 막는 기술을 개발해 트랜지스터 성능을 10배 향상했다.
#공정기술 관련 뉴스
공정기술 주제와 관련된 NEWN 기사 1건을 제공합니다.
공정기술 주제와 관련된 NEWN 기사 1건을 제공합니다.
UNIST 연구팀이 2차원 반도체인 이황화몰리브덴 표면에 희생 금속막을 입혀 공정 오염을 막는 기술을 개발해 트랜지스터 성능을 10배 향상했다.